Lumina薄膜缺陷檢測儀
簡(jiǎn)要描述:Lumina AT2薄膜缺陷檢測儀實(shí)現亞納米薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應力點(diǎn)和其他缺陷的全表面掃描和成像。實(shí)用于透明、硅、化合物半導體和金屬基底。在2分鐘內掃描并顯示300毫米晶圓。動(dòng)態(tài)補償表面翹曲??梢詷丝坛鋈毕莸奈恢?,以便進(jìn)一步分析??扇菁{高達450 x 450 mm的非圓形和易碎基板。能夠通過(guò)一次掃描分離透明基板上的頂部/底部特征。
- 產(chǎn)品型號:AT2
- 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
- 更新時(shí)間:2024-06-28
- 訪(fǎng) 問(wèn) 量:824
產(chǎn)品詳情
產(chǎn)品特點(diǎn):
實(shí)現亞納米薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應力點(diǎn)和其他缺陷的全表面掃描和成像。
實(shí)用于透明、硅、化合物半導體和金屬基底。
在2分鐘內掃描并顯示300毫米晶圓。
動(dòng)態(tài)補償表面翹曲。
可以標刻出缺陷的位置,以便進(jìn)一步分析。
可容納高達450 x 450 mm的非圓形和易碎基板。
能夠通過(guò)一次掃描分離透明基板上的頂部/底部特征。
系統優(yōu)勢的四個(gè)檢測通道:
偏光(污漬、薄膜不均勻性)
坡度(劃痕、表面形貌)
反射率(內應力、條紋)
暗場(chǎng)(顆粒、夾雜物)
AT2應用:
1.透明基底上的缺陷
2.單層污漬或薄膜不均勻性
3.化合物半導體的晶體缺陷
在化合物半導體基底和外延生長(cháng)層上檢測和分類(lèi)多種類(lèi)型的晶體缺陷
AT2的多用途:
缺陷類(lèi)型
薄厚基板
透明和不透明基板
電介質(zhì)涂層
金屬涂層
鍵合硅片
開(kāi)發(fā)和在線(xiàn)生產(chǎn)
AT2 軟件使用來(lái)自多個(gè)探測器任意組合的數據生成缺陷圖和報告:
地圖和位置
缺陷數量
彩色編碼缺陷
缺陷尺寸
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